Nanolab-> Список оборудования по категориям
Описание[]
Система состоит из центральной вакуумной транспортной системы (CVT), вакуумной подачи кассет и двух реакторов, соединенных с центральной системой вакуумной загрузки. Управление всеми блоками может быть независимым. Реакторы и транспортная система располагается в "серой" зоне, загрузочный шлюз и консоль управления - в чистой зоне.
Применение
За счет комплектации системы двумя реакторами, можно проводить комбинированные процессы травления RIE/ICP и осаждения PECVD.
PECVD процессы
|
Осаждение пленок: |
Рабочие газы: |
|
Оксиды |
100% Силан SiH4 |
|
Оксинитриды |
<20% Силан |
|
Нитриды |
Аммиак |
|
Аморфный кремний |
TEOS |
|
Карбид кремния |
Диэтилсилан |
|
Оксид азота | |
|
Кислород, Азот | |
|
Триметилсилан | |
|
Метан |
Процессы травления фторсодержащими газами (SF6, CF4, CHF3, O2)
|
Carbon |
Кварц |
|
Epoxy |
Si |
|
GaAs/AlGaAs |
SiO2 |
|
InSb |
Si3N4 |
|
Ir |
SiC |
|
Mo |
Ta |
|
Nb |
TaN |
|
OxyNitride |
TiW |
|
Polyimide |
TiN |
|
Pr (e.g: SiLK or SU8) |
W |
Процессы травления коррозийными газами (Cl2, BCl3, SiCl4, HBr, NF3, и т.д.)
|
Al |
Полупроводники на основе Al, As, Ga, In, P |
|
Au |
InP |
|
Cr |
Полисиликон |
|
Cu |
Pt |
|
Углерод |
Si |
|
GaAs |
SiC |
|
GaN |
Ti |
Меры безопасносности при работе[]
Меры безопасности изложены в руководстве по эксплуатации на английском языке Файл:Manual-ORAIII 121411.pdf